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三星:已完毕16层混淆键合hbm内存验证 全体高度缩减

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快科技(Technology)4月9日消息,据媒体报道,三星电子高管近日透露,该公司完成了采用16层混合键合 HBM 内存技术验证,已制造出基于混合键合技术的16层堆叠HBM3内存样品,该内存样品工作正常,将来16层堆叠混合键合技术将用于HBM4内存量产。

混合键合技术,作为新型的内存键合方式,相较于传统工艺,展现出了显著的优势。

它摒弃了DRAM内存层间添加凸块的繁琐步骤,通过铜对铜的直接连接方式达成层间连接,从而大大提高了工作效率。

这种创新不仅显著提升了信号传输速率,更好地满足了AI计算对高带宽的迫切需求,而且有效降低了DRAM层间距,使得HBM模块的整体高度得到显著缩减,进一步提升了其集成度和便携性。

尽管混合键合技术的成熟度和应用成本一直是业界关注的焦点,但三星电子通过多元化的策略,积极应对这些挑战。在推进混合键合技术研究与应用的同时,公司还同步开发传统的TC-NCF工艺,以达成技术多样化,降低风险,并增强整体竞争力。

据悉,三星设定的目标是将HBM4中的晶圆间隙缩减至7.0微米以内,这将进一步提升HBM4的性能和可靠性,为将来的计算应用奠定坚实基础。

业内教授对此表示,三星在16层混合键合堆叠工艺技术方面的突破,无疑将有力推动HBM内存技术的发展,为将来的计算应用提供更为强大的内存支持。

三星:已完成16层混合键合HBM内存验证 整体高度缩减

三星:已完成16层混合键合HBM内存验证 整体高度缩减

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